高分子材料磁共振造影剂t2加权成像设备

高分子材料磁共振造影剂t2加权成像设备

产品简介：

NMI20系列 高分子材料磁共振造影剂t2加权成像设备，采用模块化设计，集弛豫分析和磁共振成像于一体，荣获2010年科学仪器创xin奖。NMI20-015V-I作为测试造影剂弛豫率及成像的专用仪器，配有**的测试软件，为科研人员提供了便捷、灵敏、快速且稳定的测试结果。

技术指标：

1、磁体类型：永磁体；
2、磁场强度：0.5±0.08T，仪器主频率：21.3MHz；
3、探头线圈直径：15mm；

应用解决方案：

1、造影剂T1、T2弛豫时间测试
2、造影剂弛豫效能测试
3、造影剂溶液T1、T2加权成像、质子密度成像
…

应用案例一：四氧化三铁，T2磁共振靶向造影剂弛豫率测试，磁共振成像测试

应用案例二：Gd+ 类T1 磁共振造影剂测试实例，T1弛豫时间测试，T1加权成像

应用案例三：不同浓度磁共振造影剂对比成像

注：仪器外观如有变动，以产品技术资料为准，价格以供应商报价为准。

高分子材料磁共振造影剂t2加权成像设备

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