真空管式炉是一种先进实验设备,适用于金属，纳米，单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空气体保护下，气氛热处理的加热设备真空管式炉用于材料或化学实验室，在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。真空管式炉广泛应用于高、中、低温工艺，例如；纳米粉体的转相、炭纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。
真空管式炉主要由以下部份组成：炉体、高温电阻丝加热系统、温度控制系统、气路系统。
管式炉采用国家标准管式炉炉膛，采用高温电阻丝周边精密加热，安装使用方便，炉衬采用陶瓷纤维+轻质砖组合节能保温结构，具有优良的节能性能和快速升温性能。
真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用。
本系列设备的成套供应范围有温度控制器、热电偶、补偿导线等。温度控制有继电器控制、可控硅控制二种，由于是间歇式作业炉，一般都采用40段PlD**可编程控制，能严格控制产品的烧制过程。
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