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产品名称:
脉冲激光沉积
产品型号:
PLD
产品展商:
MTI
产品价格:
0.00 元
简单介绍
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laserablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000的环境体系要求
脉冲激光沉积的详细介绍
| 产品型号： |
脉冲激光沉积PLD
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| 产品简介： |
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laserablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000的环境体系要求），不会造成环境污染；
该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！
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| 主要特点： |
1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；
2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；
3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；
4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性；
5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。
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| 技术参数： |
电源：单相50/60Hz 220v
加热(功率)电源：2.5KW 16A
控制柜电源空气开关：25A空气开关
薄膜生长室温度：室温1200℃
靶材转速：转速20-30转/分
质量流量控制器的标定：氮气
质量流量控制器的流量范围：0-500sccm
机械泵抽气速率：4L/S
薄膜生长室真空度：5min 约40mtor，20min 约15mtor，极限真空10mtor
炉腔内径：45mm
极热温区：200mm
恒温区长度：约100mm
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| 产品规格： |
净重： |
| 可选配件： |
103高真空系统、供气（混气）系统、各种高纯氧化铝坩埚及石英坩埚、双级旋片机械泵、高纯度刚玉及石英炉管等
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| 产品证书： |
 CE认证 |
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