VBF1200X-H8 水平真空箱式炉

如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称: VBF1200X-H8 水平真空箱式炉
产品型号: VBF1200X-H8
产品展商: MTI
产品价格: 0.00 元

简单介绍
VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100℃,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。

VBF1200X-H8 水平真空箱式炉的详细介绍


产品型号:

VBF-1200X-H8

产品简介:

VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。

            我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系的要求),不会造成环境污染;

          该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成伤害!

主要特点:
  • 高品质掺钼铁铬铝合金作为发热元件,可加热到1100
  • 高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用
  • 不锈钢真空法兰带有高温O型硅胶圈
  • 内置30段可编程精密数字温度控制器**控制加热速率,降温速率和恒温时间。
技术参数:

²        工作温度:1000*高连续使用温度1000,极限*高使用温度1100*多30分钟)

²        加热元件:高质量的Ni-Cr-Al电阻丝,可加热到1100

²        炉管尺寸:8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L

²        加热范围:7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter)

²        控温方式:智能化30段可编程控制

²        恒温精度:±2

²        工作电源:单相208-240 VAC 50/60HZ

²        外型尺寸:510 x 435 x 425mm

²        净重:80KG

细节描述:

 

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在炉子腔体前放入石英炉堵,可避免热辐射损坏O型硅胶密封圈 石英平台,在常温下实验,用KF25接口,4L机械泵抽30分钟,真空度达到20mtorr,经过15小时后真空度漏到738mtorr。 石英平台由极高纯度石英构成,可在1200℃下工作,适合于VBF-1200X-H8真空管式炉

坩埚Φ110(选配件)

坩埚Φ140(选配件)

 
可根据客户要求特殊定做  可根据客户要求特殊定做  

 产品规格:

外形尺寸:510 x 435 x 425mm

净重:80KG

产品证书:   CE认证
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