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产品名称:
VBF1200X-H8 水平真空箱式炉
产品型号:
VBF1200X-H8
产品展商:
MTI
产品价格:
0.00 元
简单介绍
VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100℃,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。
VBF1200X-H8 水平真空箱式炉的详细介绍
产品型号:
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VBF-1200X-H8
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产品简介:
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VBF-1200X-H8 真空管式炉在美国通过CE认证,其水平位置带有一个外口径200mm深度340mm的石英内胆,在真空或各种气氛下温度可达到1100℃,可对6〞以下的半导体晶片进行煅烧或低温退火。该炉体表面温度低、升降温速率快、节能等优点,比一般的真空箱式炉更洁净,真空度能达到更高,是高等院校、科研院所的实验室、工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的的理想设备。
我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系的要求),不会造成环境污染;
该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成伤害!
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主要特点:
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高品质掺钼铁铬铝合金作为发热元件,可加热到1100℃
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高精度不锈钢针阀和真空表及真空法兰可直接使用
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不锈钢真空法兰带有高温O型硅胶圈
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内置30段可编程精密数字温度控制器**控制加热速率,降温速率和恒温时间。
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技术参数:
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² 工作温度:1000℃(*高连续使用温度1000℃,极限*高使用温度1100℃*多30分钟)
² 加热元件:高质量的Ni-Cr-Al电阻丝,可加热到1100℃
² 炉管尺寸:8" O.D. x 7.5" I.D x 13.4" L
² 加热范围:7.5" ID x 8.5" Depth (7.6Liter)
² 控温方式:智能化30段可编程控制
² 恒温精度:±2℃
² 工作电源:单相208-240 VAC 50/60HZ
² 外型尺寸:510 x 435 x 425mm
² 净重:80KG
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细节描述:
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点击查看(标配)
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在炉子腔体前放入石英炉堵,可避免热辐射损坏O型硅胶密封圈
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石英平台,在常温下实验,用KF25接口,4L机械泵抽30分钟,真空度达到20mtorr,经过15小时后真空度漏到738mtorr。
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石英平台由极高纯度石英构成,可在1200℃下工作,适合于VBF-1200X-H8真空管式炉
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坩埚Φ110(选配件)
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坩埚Φ140(选配件)
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可根据客户要求特殊定做
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可根据客户要求特殊定做
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产品规格:
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外形尺寸:510 x 435 x 425mm
净重:80KG
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产品证书:
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CE认证
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