1英寸高真空磁控溅射头

特点

• 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
• 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布
• 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命
• 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
• 安装是采用标准真空接头，便于操作
• 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度
• 配有一块铜靶

溅射头

（点击图片查看详细资料）

• 溅射头的直径:46.3mm
• 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
• 靶材的*大厚度: 1/8" (3mm) 
• 磁环:NdFeB稀土永磁铁      
• 杆的直径:      3/4" O.D.

所需功率

DC (*大) 250 W

RF （*大）100 W

*大阴极溅射电流

3A

阴极溅射电流

200 - 1,000 V

可选压力范围

~1 mTorr 至1 Torr

溅射厚度均匀性图

• 
• 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：
• 功率：直流150W
• 真空环境：10mTorr(Ar)
• 靶材与基片的距离：75mm

水冷却

• 所需水流量： 1/2 GPM
• 进水温度：<20 C
• 水管接头：0.25" O.D快插头

接头

• 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
• 本公司会赠送一高真空快速接头
• 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
   

产品长度

14英寸（355.6mm)

产品重量

1.36kg

倾斜装置

• 溅射头相对于杆*大可倾斜+/- 45度
• 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

可选配件

• 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L
• 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪
  
  

质保期

一年质保期终生维护

应用

• 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：
• 薄膜涂覆
• 半导体器件
• 磁记录介质
• 超导薄膜
• 量子计算器件
• MEMS
• 生物传感器
• 纳米技术
• 超晶格
• 颗粒膜
• 记忆合金
• 组合薄膜沉积
• 光学薄膜