黑体辐射源技术的新要求

    在黑体的几个指标中，**重要的是黑体的发射率。为满足黑体发射率的参数要求，我们会对黑体腔做特殊的安排，在此基础上，黑体的均匀性指标也间接决定了。对于腔式的黑体辐射源，我们倾向于设计为一个闭合罩。当光子进入一个黑体空腔时，会在黑体腔内随机反射，然后再从空腔中出来。经过实验测得，当黑体的标称表面发射率为0.9时，实际有效发射率可高达0.999。当然，腔式黑体可以满足比较高的发射率，但是其只能作为一个点源辐射体；而面源黑体虽然可作为一个朗伯辐射体使用，但是其实际发射率就达不到太高的要求。武汉凯尔文一直在努力提升面源黑体辐射源的发射率和光谱均匀性指标。我们结合多年的经验与同行研究成果发现，对黑体面源进行开微槽处理，可以使黑体面的发射率近于一个理想辐射源。我们经过实验发现，在不同温度条件下，与一般的面源黑体相比，开微槽的面源黑体辐射源在2~20纳米光谱范围内发射率要高很多。并且实际发射率的均匀性指标也提升了很多。实验结果也表明，实际物体的发射率对温度与波长都比较敏感。

    

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