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18兆欧高纯水设备处理工艺介绍

18兆欧高纯水设备处理工艺介绍：通常应用于电子、高新材料、集成电路、硅晶片、电子元件生产冲洗用水，一般由进水预处理装置、RO反渗透除盐装置、超纯化处理装置三部分组成。预处理的目的进水符合RO进水要求，主要指标为：浊度、污染指数、氧化还原电位等；RO反渗透膜是主要的去离子工序，基本去除99%的离子杂质；超纯化后处理（EDI或离子交换）进一步去除水中的微小离子，以满足不同用途的*终水质指标要求。

主要去离子水工艺介绍：

RO反渗透纯化系统

反渗透（Reverse Osmosis，简称RO）是以压力差为推动力的一种高新膜分离技术，具有一次分离度高、无相变、简单高效的特点。反渗透膜“孔径”已小至纳米（1nm=10-9m），在扫描电镜下无法看到表面任何“过滤”小孔。在高于原水渗透压的操作压力下，水分子可反渗透通过RO半透膜，产出纯水，而原水中的大量无机离子、有机物、胶体、微生物、热原等被RO膜截留。

EDI连续除盐装置

连续电去离子EDI（Electrodeionization的缩写），是利用混床离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下分别透过阴阳离子交换膜而被连续去除的过程。这一新技术可以代替传统的离子交换（DI），产出15MΩ.cm以上的超纯水。EDI深度除盐的*大优点是可长期稳定运行，无需用酸碱再生阴阳树脂，自动化程度高、占地面积小、出水水质高等特点。

抛光树脂交换纯化柱

抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端，来保证系统出水水质能够维持用水标准，一般出水水质都能达到18兆欧以上，并对TOC、SIO2都有一定的控制能力，抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型，在抛光树脂中被交换出来的H＋和OH－结合生成H2O，因此混床离子交换纯化柱可用来深度去除纯水中尚存的微量离子，其产水电阻率可达18.2MΩ.cm。

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