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低温恒温循环器的使用事项

低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

1、低温恒温循环器提供－40～100℃温度范围内的低温或恒温液体，以满足用冷却水及低温液体去降温或恒温仪器的需要。

2、低温恒温循环器特别适用与旋转蒸发器（皿）、发酵罐、阿贝折光仪、电子显微镜，低温化学反应釜、生物制药反应器等实验设备配套使用。

3、先进的内循环/外循环泵系统，内循环使仪器温度均匀恒定，外循环泵输出6升/分～18升/分流量的低温恒温液体，高扬程可达4.5米。

4、5升～30升的工作槽容积内还可放入装有生物试剂或被测样品的各种容器，直接进行低温试验或测试，实现一机多用。

5、微机智能控制系统，双窗口数字显示，具有温度测量值偏差修正功能，具有超温保护，传感器异常保护功能。触摸按键操作，方便快捷。

6、风冷式高效全封闭压缩机制冷，降温迅速。制冷系统具有过热、过电流等多重过载保护装置。

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