产品详情
简单介绍：
高温超导薄膜的单晶基片单晶是当前重要的工业化、大尺寸高温超导薄膜基片单晶材料。它用提拉法生长，可以得到直径2英吋及更大的单晶和基片。高温超导薄膜的单晶基片
详情介绍：
概述：
单晶是当前重要的工业化、大尺寸高温超导薄膜基片单晶材料。它用提拉法生长，可以得到直径2英吋及更大的单晶和基片。它与等高温超导材料和晶格匹配好，介电常数较低，微波损耗小，因而适于制作高温超导微波电子器件（如远程通讯中的高温超导微波滤波器等）。有巨大的现实及潜在的应用前景。
参数:
| 晶系 | 赝立方晶系 黄铜矿Pm3m |
| 晶格常数（ ） | a=3.790 |
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熔点（℃） |
2100 |
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密度（g/cm3） |
6.50 |
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比热（cal/g℃） |
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莫氏硬度 |
6-6.5 |
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热膨胀系数（/℃） |
9.4x10-6 |
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介电常数 |
εr= 21 |
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特点 |
适于微波电子器件 |
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生长方法 |
提拉法 |
基片规格：
| 尺寸: | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
| Ф15,Ф20，Ф1″，Ф2″,Ф2.6″ | |
| 厚度: | 0.5mm，1.0mm |
| 表面抛光: | 单面或双面 |
| 取向： | ＜100＞ ＜110＞ ＜111＞ |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 边缘定向精度: | 2°（特殊要求可达1°以内） |
| 斜切晶片： | 可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
| Ra: | ≤5Å（5μm×5μm） |
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