分光系统
凹面全息离子刻蚀光栅 光栅焦距600mm 光栅刻线数2400条/mm 检测波长范围120-800nm
光源系统
激发电压500V/300V软件设置自动转换 6种激发光源 放电参数可根据不同分析要求调节 水平氩气保护发光台
数据处理系统及分析软件
外置式品牌计算机及打印机 Windows操作系统 易于操作的PDA-Win分析软件包 数据管理功能 分析情报保护功能
电源和环境要求
220V±10%，50/60Hz，*大功率4KVA 单独地线＜30Ω（干燥地区＜10Ω） 温度10-30℃（每小时变化＜5℃） 湿度 80%以下 重量约500kg，尺寸W1550×D620×H253
※外观及规格如有变动，恕不另行通知。
发射光谱分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）
所谓发射光谱分析是指使用放电等离子体蒸发气化来激发样品中的目标元素，根据得到的元素固有的亮线光谱（原子光谱）的波长进行定性，并根据发光强度进行定量的分析方法。 广义上讲，激发放电（光源）还包括使用ICP（Inductively coupled plasma 电感耦合等离子体）作为激发放电（光源）的ICP发射光谱分析。但发射光谱分析（发光分析）或光电测光式发射光谱分析，是指使用火花放电/直流电弧放电 /辉光放电作为激发放电的发射光谱分析。发射光谱分析中，在固体金属样品和与电极之间发生放电。 岛津的发射光谱分析装置是在氩气氛围中进行火花放电，对火花脉冲的发光进行统计处理，采用可提高测定重现性（精度）的方式（PDA测光方式：Pulse Distribution Analysis）。 发射光谱分析装置可快速测定固体金属样品的元素组成，是在炼铁、铝冶炼工艺管理用中必不可少的手段。