合有:上、下卸料室,转移室,液晶注入,Color Filter等,用于有反应气体抽出的场合有:离子注入,刻蚀,抛光,LPCVD, PECVD等。在CVD生产中要求真空泵抽出反应生成物和N玛,q凡,C1凡, HCl等清洗气体。
一般工艺中的应用:
千蚀刻生产中多用到氟、氯、溟化物系等腐蚀性较强的气体,这些气体与水结合变成强酸,有强烈腐蚀性。因此,要求泵和管道材料具有高度耐腐蚀性育旨。
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