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步进原理

日期:2024-11-19 10:35
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摘要:步进原理

为了对大直径晶圆和液晶进行高速缩小投影曝光,步进机使用短波长的光源以获得高分辨率,并将IC掩模图案投影并曝光在光罩上后,移动平台曝光晶圆的过程涉及重复多次图案曝光。步进机的内部结构包括曝光光源、投影镜头、晶圆台、晶圆装载机等。

由于IC大规模集成的需求,已开始使用波长较短的曝光光源。这是因为需要小型化,并且一般来说,用于曝光的光的波长越短,分辨率越高。 20世纪90年代,365 nm的i线是主要焦点,但此后波长变得更短,例如Krf(波长248 nm)和Arf(波长193 nm)。

晶圆载物台是为了更快、更高效地制造IC和其他半导体而高速移动晶圆的载物台。除了高速移动之外,由于精细加工还需要高定位精度。晶圆装载机负责传送晶圆,例如从晶圆台上取出晶圆并将晶圆放置在其上。

异物的粘附是IC制造中的一大敌人,并且需要高速地将精密的晶圆移入和移出。步进机具有上述结构,一边使晶圆步进一边进行顺序曝光。

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