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EMS 575T双头高分辨率离子溅射镀膜仪
产品资料
EMS 575T双头高分辨率离子溅射镀膜仪
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称:
EMS 575T双头高分辨率离子溅射镀膜仪
产品型号:
产品展商:
EMS
产品文档:
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简单介绍
EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率镀膜仪(喷金仪)。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。
产品描述
EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率镀膜仪(喷金仪)。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。当腔内气体压降为10-4 mbar,排气开始,腔内气压维持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之间,排气的*后阶段,靶材按照**镀膜时间开始喷镀。镀膜需要两种不同金属的,不需要关泵,继续溅射另一种金属。喷镀完成后,两个泵停止,排气阀排气。
仪器质保期2年。模块化的单元结构使得仪器维护方便,摘掉问题模块,换上无问题的模块,仪器即可很好的运行,一点不会耽误实验进程。
性能特征:
全自动一键式操作,微处理器数字控制方式,可预设参数
LCD屏实时显示状态参数
质保期:标准保修期为一年
高分辨率精细镀层(不超过0.5nm的铬颗粒大小)
薄金属镀层,典型5nm厚
涡轮分子泵
Peltier冷却双溅射头,无需冷却水
双溅射头:一次真空条件下,可顺序溅射两种不同的材料,对于需要依次喷镀两种金属的样品特别适用
磁控溅射靶源设计
旋转机械泵为备用泵,机械泵为外部安装式
仪器参数:
仪器尺寸
450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)
工作腔室
硼硅酸盐玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)
加不锈钢底座
110mm(Dia.) x 115mm(H)
重量
42Kg
靶材
54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (标准铬靶材和金靶材)
样品台
60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋转,一定的倾斜度
真空泵工作范围 (Penning)
ATM to 1x10
-7
mbar,镀膜腔体极限真空度10
-7
mbar
操作真空
1x10
-3
mbar to 1x10
-4
mbar
溅射电流
0-175mA
溅射时间
0-4 minutes
功率
1000v at 100 ma, 100 watts
沉积速率
30nm/min at 100ma
涡轮分子泵
60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10
-8
mbar)
电源配置
230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)
Services
Argon Nominal 4 psi
真空泵(推荐配件)
附带真空管和油气过滤器
订购信息:
货号
产品名称
规格
91110-TH
EMS 575T Twin Head Sputter Coater, complete with Target
台
91005
Rotary Vacuum Pump
个
92045
EMS 50 Water Chiller
个
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