CT200N氧化膜测厚仪（CT200拓展型）
CT200N氧化膜测厚仪（CT200拓展型） 产品概述：
CT200升级版在开发过程中，增强了数据统计功能，数据存储采用回环覆盖方式，避免了新用户使用时出现存储器满的异常。采用了磁性(CT200F)和涡流(CT200N)两种测厚方法，即可测量磁性金属基体上非磁性覆盖层的厚度又可测量非磁性金属基体上非导电覆盖层的厚度
●更加方便的数据统计、增加存储量
●任意界面测量
●新颖的界面布局
●简洁、经济、实用
●增加了涡流功能测厚，实现一机两用
●设有五个统计量：平均值（MEAN）、*大值（MAX）、*小值(MIN)、测试次数（NO.）
标准偏差（S.DEV）
●具有存贮功能：可存贮500个测量值
CT200N氧化膜测厚仪（CT200拓展型）技术参数：
测头类型
CT200F
CT200N
工作原理
磁感应
电涡流
测量范围
0~1250μm
0~1250μm，其中：铜上镀铬（0~40μm）
分辨力
0.1μm（0~50μm），1微米（＞50μm）
测量误差
3%H＋1μm（H为测量范围）
示值误差
一点校准（μm）
±（3%H+1）
测试条件
*小曲率半径（μm）
凸1.5
凸3
*小面积的直径（μm）
Φ7
Φ5
基体临界厚度（㎜）
0.5
0.3
工作电压
3*1.5V
外形尺寸
155㎜*68㎜*27㎜
整机重量
230g
标准配置
主机、探头（F或N）、基体（铁或铝）、标准片
CT200N氧化膜测厚仪（CT200拓展型）标准配置：
主机、探头（F或N）、基体（铁或铝）、标准片、电池、随机文件、仪器箱
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CT200NCT200
沪公网安备 31011402002798号
