目前在国内洁净管道可参照标准比较少,通常我们除了参照《洁净厂房设计规范》《氢气站设计规范》《氢氧站设计规范》《压缩空气设计规范》等有关技术行业技术规范外,在业内我们惯用的选材与配管一般参照国际通用的行业标准: 在半导体体行业线宽越做越小,其对气体纯度、颗粒度、杂质含量、露点的要求也越来越高。表1是各线宽下对超纯氮气的要求 , R; G7 o; d! C! I 高纯氮气(PN2):系统管道采用内壁电解抛光(EP)低碳(316L)不锈钢管,阀门采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀。 氮气(N2):系统管道采用内壁电解抛光(EP)低碳(316L)不锈钢管或光亮退火(BA)低碳(316L)不锈钢管,阀门采用相同材质的波纹管阀或球阀。 " h+ N4 x" t% U. Q# H6 p" E 高纯氢气(PH2)氢气(H2):系统管道采用内壁电解抛光(EP)低碳(316L)不锈钢管,阀门采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀。" |# B e v, c5 C 氩气(Ar):系统管道采用内壁电解抛光(EP)低碳(316L)不锈钢管,阀门采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀。) O- _4 S5 T# E2 C 氦气(He):系统管道采用内壁电解抛光(EP)低碳(316L不锈钢管)阀门采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀。* B$ N: H0 {% G 特气系统:必要的还需做双套管:外管酸洗钝化(AP)处理,内管电解抛光(EP),阀门采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀。 r( x. u. O4 n0 h# ?- l5 ~$ _$ Y
压缩空气(CDA):系统管道采用光亮退火(BA)低碳(316L)不锈钢管,阀门采用相同材质的球阀(要求不高的公司亦可采用铜管,视工艺要求定) 对于特殊气体来讲,气体品种多,有毒有害气体多,原来是一机台配一气柜,高昂的装备组合和维修费用大大增加了投资成本,且有的还布置在工艺间内,存在着泄漏的**隐患。现在广泛采用集中供气系统,气柜集中,自控系统不断完善,其报警、喷淋、切换、吹扫多较为成熟,特气间也与工艺间隔离,并对房间有防爆要求,工作的**性大大提高。 ( q' ]! N5 g+ i4 p) w0 C
针对腐蚀性、毒性、燃烧性的气体,通常设计将钢瓶置于气瓶柜(Gas Cabinet)内,再透过管路将气体供应至现场附近的阀箱(VMB, Valve Manifold Box),而后再进入制程机台的使用点(POU, Point of Use),于进入机台腔体之前,会有独立的气体控制盘(GB, Gas Box)与制程控制模块联机,以质流控制器(MFC, Mass Flow Controller)进行流量之控制与进气的混合比例控制,通常此气体控制盘不属于厂务系统的设计范畴,而是归属制程机台设备的一部份。一般的惰性气体则是以开放式的气瓶架(Gas Rack)与阀盘(VMP, Valve Manifold Panel)进行供应。8 U/ U% k% h1 ^) P; R2 ?3 O! e 4 u4 X+ |" a, N8 A8 R$ r
超洁净不锈钢管道、管件、阀门的定义% ?8 q& N: z7 A! e" @ 用途:不锈钢洁净管道用于输送半导体业中高纯或超纯洁净气体,及生物制药产业中洁净管道(各种水)。 表面处理方式: RA 值的比较(Roughness Average,粗糙度平均值)' T2 L7 O* k" J7 v6 s 材质 表面处理方式 内表面粗糙度平均值(µm) 316L AP RA〈=1.0 316L BA RA〈=0.8: E7 K+ L7 u- r 316L EP RA〈=0.13-0.2