变角光谱椭圆仪 HO-ED-TH-06 世联博研（北京）科技有限公司

简单介绍

光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。Holmarc的光谱椭圆仪结合了旋转分析仪椭偏仪技术来表征薄膜样品。它使用高速CCD阵列检测来收集整个光谱。它可以测量从纳米厚度到数十微米的薄膜，以及从透明到吸收材料的光学特性。它可以精que地测量光学常数，例如折射率，薄膜厚度和消光系数。

产品描述

椭偏原理

椭偏法是用于薄膜分析的高度灵敏的技术。该原理依赖于从表面反射时光的偏振态的变化。表征*化状态，对应于电磁波电场的方向；选择两个方向作为参考，p方向（平行）和s方向（垂直）。反射光具有在p方向和s方向上不同的相位变化。椭偏法测量这种*化状态；

p = rp / rs = tan ΨeiΔ

其中Ψ和Δ是幅值比和相移p和š分别的部件。由于椭圆偏振法测量两个值的比率，因此它非常准确且可重复。

规格

光谱范围：450-800 nm

检测器：CCD

分辨率：2 nm

光源：卤素灯

测角计：40-90度

厚度测量范围：0.1 nm-10微米

膜厚分辨率：0.01 nm

测得的RI分辨率：0.001

样品对准：半自动（光学检测），手动10mm高度调节和倾斜

样品台特征：X-Y平移超过10 x 10mm（可选）

可测量的薄膜参数：折射率，消光系数，吸收系数和薄膜厚度

特征

无损非接触技术

单层和多层样品的分析

精que测量超薄膜

测量，建模和自动操作软件

可以测量（Ψ，Δ）的所有范围

均匀灵敏度（Ψ，Δ）

软件功能

用户可扩展材料库

数据可以另存为Excel或文本文件

**的数学拟合算法

提取厚度和光学常数

参数化模型

多层厚度测量

采集和分析不同波长和角度下的psi，增量和反射率

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