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- 产品名称：薄膜光谱反射仪
- 产品型号：HO-ED-TH-04
- 产品展商：holmarc
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- 发布时间：2020-03-23
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简单介绍
薄膜光谱反射仪是用于工业和研究中的薄膜厚度分析的基本仪器。Holmarc的TFSR模型号：HO-ED-TH- 04能够以高速和可重复性分析薄膜的厚度，复折射率和表面粗糙度。TFSR理论使用菲涅尔方程的复杂矩阵形式来实现反射率和透射率。优良反射光谱是Reflectometer的原理。这是反射光束的强度（通常是单色的）与入射光束的强度之比。
产品描述
薄膜光谱反射仪是用于工业和研究中的薄膜厚度分析的基本仪器。Holmarc的TFSR模型号：HO-ED-TH- 04能够以高速和可重复性分析薄膜的厚度，复折射率和表面粗糙度。TFSR理论使用菲涅尔方程的复杂矩阵形式来实现反射率和透射率。优良反射光谱是Reflectometer的原理。这是反射光束的强度（通常是单色的）与入射光束的强度之比。
规格
膜厚范围：25 nm-1μm
反射波长范围：400 nm-900 nm
透光率/吸光度范围：0-100％
光源：50W钨卤素石英灯
探测器：CCD线性阵列，3648像素
光谱仪：Spectra CDS 215
光谱仪波长范围：VIS-NIR
标准样品：NSF-66基材上的SiO2薄膜
光纤：具有SMA光纤耦合器的多模双叉光纤
EMA模型：线性EMA，布鲁格曼，麦克斯韦·加内特，洛伦兹-洛伦茨模型
在NSF-66上通常用于SiO2的精度：±5 nm
相同样品的精度：±10 nm
光功率：20 W
光斑尺寸：1毫米
样品上的斑点尺寸：5 mm
材料库：可扩展的材料用户库
PC接口：RS232 / USB
标准样品：NSF-66基材上的SiO2薄膜
参考样品：钇和裸铝增强银
测量模式：曲线拟合/回归算法，FFT，FFT +曲线拟合
特征
分析单层或多层膜
用户可扩展材料库
数据可以另存为Excel或文本文件
参数化模型
**的数学拟合算法
基于FFT的厚度测量
提取厚度和光学常数
光纤探头，用于法向入射角下的反射率测量
CCD线性阵列图像传感器，可同时测量每个波长的反射率
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