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- 产品名称:Thin film Spectroscopic Reflectometer
- 产品型号:HO-ED-TH-04
- 产品展商:holmarc
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- 发布时间:2020-03-23
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简单介绍
薄膜光谱反射仪是用于工业和研究中的薄膜厚度分析的基本仪器。Holmarc的TFSR模型号:HO-ED-TH- 04能够以高速和可重复性分析薄膜的厚度,复折射率和表面粗糙度。TFSR理论使用菲涅尔方程的复杂矩阵形式来实现反射率和透射率。优良反射光谱是Reflectometer的原理。这是反射光束的强度(通常是单色的)与入射光束的强度之比。
产品描述
薄膜光谱反射仪是用于工业和研究中的薄膜厚度分析的基本仪器。Holmarc的TFSR模型号:HO-ED-TH- 04能够以高速和可重复性分析薄膜的厚度,复折射率和表面粗糙度。TFSR理论使用菲涅尔方程的复杂矩阵形式来实现反射率和透射率。优良反射光谱是Reflectometer的原理。这是反射光束的强度(通常是单色的)与入射光束的强度之比。
规格
膜厚范围:25 nm-1μm
反射波长范围:400 nm-900 nm
透光率/吸光度范围:0-100%
光源:50W钨卤素石英灯
探测器:CCD线性阵列,3648像素
光谱仪:Spectra CDS 215
光谱仪波长范围:VIS-NIR
标准样品:NSF-66基材上的SiO2薄膜
光纤:具有SMA光纤耦合器的多模双叉光纤
EMA模型:线性EMA,布鲁格曼,麦克斯韦·加内特,洛伦兹-洛伦茨模型
在NSF-66上通常用于SiO2的精度:±5 nm
相同样品的精度:±10 nm
光功率:20 W
光斑尺寸:1毫米
样品上的斑点尺寸:5 mm
材料库:可扩展的材料用户库
PC接口:RS232 / USB
标准样品:NSF-66基材上的SiO2薄膜
参考样品:钇和裸铝增强银
测量模式:曲线拟合/回归算法,FFT,FFT +曲线拟合
特征
分析单层或多层膜
用户可扩展材料库
数据可以另存为Excel或文本文件
参数化模型
**的数学拟合算法
基于FFT的厚度测量
提取厚度和光学常数
光纤探头,用于法向入射角下的反射率测量
CCD线性阵列图像传感器,可同时测量每个波长的反射率
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