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- 产品名称：UV Laser Writing System for Photolithography
- 产品型号：HO-LWS-PUV
- 产品展商：holmarc
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- 发布时间：2020-03-24
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简单介绍
Holmarc设计了具有高精度组件的多功能4“基板UV激光写入器，专门设计用于为用户提供*大的自由度，使其可以在光敏层中创建微结构。
系统支持高达4096级的灰度等级，支持3D光学结构，表面结构以及蒙版项目，使该系统成为用于研发的理想Litho工具。
产品描述
Holmarc设计了具有高精度组件的多功能4“基板UV激光写入器，专门设计用于为用户提供*大的自由度，使其可以在光敏层中创建微结构。
系统支持高达4096级的灰度等级，支持3D光学结构，表面结构以及蒙版项目，使该系统成为用于研发的理想Litho工具。
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激光
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GaN激光二*管
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波长
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405纳米
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空间过滤单元
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基于物镜
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光斑尺寸
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1微米（取决于物镜）
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强度
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现场软件控制的*大3 mW
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光功率反馈单元
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是
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焦点控制
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软件可控
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灯光控制
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4096级
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XY扫描台行程
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：
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100毫米
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解析度
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：
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1微米
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Z轴行程
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：
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20毫米
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解析度
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：
|
1微米
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