- 如果您对该产品感兴趣的话，可以
- 产品名称：UV Laser Writing System for Photolithography用于光刻的紫外激光写入系统
- 产品型号：HO-LWS-PUV
- 产品展商：holmarc
- 产品文档：无相关文档
- 发布时间：2020-03-24
- 在线询价
简单介绍
Holmarc设计了具有高精度组件的多功能4“基板UV激光写入器，专门设计用于为用户提供*大的自由度，使其可以在光敏层中创建微结构。
系统支持高达4096级的灰度等级，支持3D光学结构，表面结构以及蒙版项目，使该系统成为用于研发的理想Litho工具。
产品描述
Holmarc设计了具有高精度组件的多功能4“基板UV激光写入器，专门设计用于为用户提供*大的自由度，使其可以在光敏层中创建微结构。
系统支持高达4096级的灰度等级，支持3D光学结构，表面结构以及蒙版项目，使该系统成为用于研发的理想Litho工具。
|
激光
|
：
|
GaN激光二*管
|
|
波长
|
：
|
405纳米
|
|
空间过滤单元
|
：
|
基于物镜
|
|
光斑尺寸
|
：
|
1微米（取决于物镜）
|
|
强度
|
：
|
现场软件控制的*大3 mW
|
|
光功率反馈单元
|
：
|
是
|
|
焦点控制
|
：
|
软件可控
|
|
灯光控制
|
：
|
4096级
|
|
XY扫描台行程
|
：
|
100毫米
|
|
解析度
|
：
|
1微米
|
|
Z轴行程
|
：
|
20毫米
|
|
解析度
|
：
|
1微米
|
- 温馨提示：为规避购买风险，建议您在购买前务必确认供应商资质与产品质量。
- 免责申明：以上内容为注册会员自行发布，若信息的真实性、合法性存在争议，平台将会监督协助处理，欢迎举报