MP-2DE型金相试样磨抛机 本磨抛机为台式双盘双控磨抛机，适用于对金相试样进行粗磨、精磨和抛光操作。 1.采用微处理器控制系统，磨抛盘转速为：工作盘直径Φ250mm，50-600r/min（无级调速），并且可以自由改变旋转方向，从而使本机具有更加广泛的应用性； 2.本机具有双控制系统，可供两人同时操作； 3.本机带有冷却装置，可以在研磨抛光时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织； 4.该机使用方便、**可靠，是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
50-1400r/min 无极调速双盘双控 研磨盘直径：标配250mm 可选203mm 应用：研磨/抛光两用机型 磨抛盘转向：顺时针和逆时针兼具，可切换
MP-2DE型金相试样磨抛机