小型镀膜仪产品学习

此次培训以蒸发镀膜仪、等离子溅射镀膜仪、以及二合一镀膜仪三种产品为主要学习内容。

蒸发镀膜仪

真空蒸镀是将镀料在真空中加热、蒸发，使蒸发的原子或原子团在温度较低的基板上析出形成薄膜。蒸发热源采用电阻加热法，电阻加热一般用于熔点低于1500℃的镀料，原理类似白炽灯，蒸发源的熔点需要很高，使用方便，结构简单，造价低廉。蒸发镀膜操作过程包括三步，即制造真空、镀膜操作、以及破坏真空。

小型等离子溅射镀膜仪

我们的小型等离子溅射镀膜设备属于zui简单的直流二极溅射。

等离子镀膜具有结构简单，控制不困难，操作重复性好（控制参数少）的优点。但它的沉积速率不高，能量低，一般只有溅射金银铜等效率比较好。小型等离子溅射镀膜仪的镀膜过程也是三步，即制造真空、镀膜操作、以及破坏真空。

二合一镀膜仪

二合一镀膜仪是将小型蒸发镀膜仪和小型等离子溅射镀膜仪整合在一起的一台设备。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪能够满足扫描电子显微镜样品表面喷金、蒸金或蒸碳过程使用以及非导体材料实验电极的制作，也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。二合一镀膜仪操作过程：制造真空、镀膜操作、以及破坏真空。

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