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大功率直流磁控溅射镀膜仪产品内容:
大功率直流磁控溅射镀膜仪包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台。水冷靶头使镀膜后的样品表面不会因镀膜温度过高而变形,甚至损坏样品;样品台可旋转,可以使样品边旋转边镀膜使镀膜后的样品表面膜后均匀。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
大功率直流磁控溅射镀膜仪技术规格:
项目
明细
产品型号
CY-MSH325- I-DC-SS
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
4KW
系统真空
≦5×10-4Pa
样品台
外形尺寸
φ150mm
加热温度
≦500℃
控温精度
±1℃
可调转速
≦20rpm
磁控靶枪
靶材尺寸
直径Φ50.8mm,厚度≦3mm
冷却模式
循环水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔体
腔体尺寸
直径φ325mm,高度500mm
腔体材质
SUU304不锈钢
观察窗口
直径φ100mm
开启方式
顶开式
气体控制
1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM
真空系统
配分子泵系统1套,气体抽速600L/S
膜厚测量
可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å
溅射电源
直流电源500W
控制系统
CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
设备重量
350kg
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