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3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪应用领域：
这款紧凑型3靶磁控溅射镀膜机专为在氧化物单晶基板上涂覆氧化物薄膜而设计，通常不需要高真空设置。
3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪技术规格：
项目
明细
产品型号
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
供电电压
AC220V，50Hz
整机功率
4KW
系统真空
≦5×10-4Pa
样品台
外形尺寸
φ140mm
加热温度
≦500℃
控温精度
±1℃
可调转速
≦20rpm
磁控靶枪
靶材尺寸
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷却模式
循环水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔体
腔体尺寸
直径φ325mm，高度500mm
腔体材质
SUU304不锈钢
观察窗口
直径φ100mm
开启方式
顶开式
气体控制
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
溅射电源
直流电源500W*2,射频电源500W
控制系统
CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
设备重量
350kg
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