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双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪主要特点：
1、配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪技术规格：
项目
明细
产品型号
CY-MSH325- II-DCRF-SS
供电电压
AC220V，50Hz
整机功率
4KW
系统真空
≦5×10-4Pa
样品台
外形尺寸
φ140mm
加热温度
≦500℃
控温精度
±1℃
可调转速
≦20rpm
磁控靶枪
靶材尺寸
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷却模式
循环水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔体
腔体尺寸
直径φ325mm，高度500mm
腔体材质
SUU304不锈钢
观察窗口
直径φ100mm
开启方式
顶开式
气体控制
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
溅射电源
直流电源500W,射频电源500W
控制系统
CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
设备重量
350kg
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