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小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为150W直流电源，可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。
本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用高真空不锈钢腔体，腔体设置带挡板的石英观察窗，便于实验的观察记录；腔体设计真空性能优良，造型小巧，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。
小型单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：
该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
小型单靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
产品名称
桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪
产品型号
CY-MSZ254-I-DC-SS
样品台
外形尺寸
φ100mm
加热温度
≦500℃
可调转速
≦20rpm
磁控靶枪
配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体
腔体尺寸
φ254mm X 300mm
观察窗口
全向透明
腔体材料
304不锈钢
开启方式
上盖拆卸式
真空系统
前级泵
低噪音双极旋片泵
分子泵
低噪音大抽速涡轮分子泵
真空测量
复合真空计，量程:10-5~105Pa
抽气接口
KF16
抽气接口
KF40
排气接口
KF16
系统真空
1.0×10-4Pa
供电电源
AC 220V 50/60Hz
抽气速率
分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s
电源配置
电源数量
直流电源一套
输出功率
直流电源300W
其他参数
供电电压
AC220V,50Hz
整机功率
2kW
整机尺寸
550mm X 350mm X450mm
