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  • 产品名称:等离子溅射蒸发二合一镀膜仪

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  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
CY-EVS180G-LV二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。 设备主要由石英真空室、等离子溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。 设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构,样品台与靶的距离灵活可调。 设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小,噪音小,无油污污染等优点。 真空腔体采用石英加工而成,呈现圆柱结构,外形美观,大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效镀膜质量。
详情介绍:

本产品为二合一镀膜仪,可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM(扫描电镜)的样品制备。设备主要由石英真空室、等离子溅射靶,蒸发镀膜装置,放置样品的样品台,真空泵机组、真空测量规管,进气系统和控制系统组成。
设备主机采用触摸显示屏操作,温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空室采用上中下结构,样品台与靶的距离灵活可调。
设备真空获得系统采用上等双极旋片泵。 具有体积小,噪音小,无油污污染等优点。
真空腔体采用石英加工而成,呈现圆柱结构,外形美观,大方。主要密封法兰采用 KF 系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封,真空性能优良,能有效镀膜质量。
技术参数:

样品台

φ80mm

至蒸发源间距

20mm~50mm可调

φ80mm

直流溅射头

数量

2” x1

蒸发系统

 

蒸发源

钨丝篮

*高温度

1700℃

热电偶

S型热电偶

真空腔体

 

腔体尺寸

φ180mm X 150mm

观察窗口

全向透明

腔体材料

高纯石英

开启方式

顶盖拆卸式

真空系统

 

 

 

机械泵

GHD-031B

抽气接口

KF16

真空测量

电阻规

排气接口

KF16

极限真空

10E-1Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

抽气速率

旋片泵:4L/S

溅射电源配置

数量

直流电源 x1

*大输出功率

150w

 

其他

 

供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

500 X 350 X 400mm

整机重量

15kg

整机功率

1.5kw

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