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  • 产品名称:等离子体增强型化学气相沉积PECVD

  • 产品型号:CY-PECVD-500T-SS
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备
详情介绍:

PECVD技术参数:


供电电源

AC220V 50Hz (欧标)

射频电源

信号频率

13.56MHz

功率输出范围

0~500W

*大反射功率

100W

反射功率 (在*大功率时)

<5W

功率稳定性

±0.1%

工作腔体

加热温度

RT-1000℃

温控精度

±1℃

样品台尺寸

Φ200mm

样品台转速

1-20rpm 可调

喷头尺寸

Φ90mm

距离

喷头与样品之间的距离40-100mm连续可调

沉积工作真空

0. 133- 133Pa (可根据工艺调整)

法兰

上法兰可由电机升降,基材易更换,并有可视窗口

腔体

不锈钢材质, Φ500mm * 500mm

观察窗

Φ100mm, 带挡板

供气系统

通道数

6

测量单位

质量流量计

测量范围

A 通道: 0200SCCM for H2  

B 通道: 0200SCCM for CH4

C 通道: 0200SCCM for C2H4

D通道: 0500SCCM for N2

E通道: 0500SCCM for NH3

F通道: 0500SCCM for Ar

测量精度

±1.5%F.S

工作压差

-0.15Mpa~0.15Mpa

连接管材质

304 不锈钢

气路

304 不锈钢针阀

进气和出气接口规格

1/4" 卡套接头

真空系统

前级泵抽速

4.7L/s

分子泵抽速

1200L/s

真空测量

复合真空计, 范围10-5Pa ~ 105Pa

真空度

5.0*10-3Pa

水冷机

冷却水温度

37

水流速

10L/min

功率

0.1KW

冷却功率

50W/℃

空压机

OTS-550



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