产品名称：等离子增强化学气相沉积设备

产品型号

CY-PECVD-240T-SS化学气相沉积设备

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备实验所需气体气瓶（自带Ø10mm双卡套接头）及减压阀

4、通风装置：需要

主要特点

1、所需成膜温度低

2、沉积速率快，应用广泛

3、体积小，操作简便

4、采用射频为增强源易于控制

5、清理安装便捷。

6、一体化触摸屏控制

射频电源

信号频率：13.56MHz±0.005%

功率输出：0~500W

反射功率：<3W（*大功率）

功率稳定性：±0.1%

真空腔体

采用样品台在下方，供气喷头在上方的电容耦合方式。

样品台加热：RT-1000℃以上，温控精度：±1°C

样品台转速：可调转速：1-20rpm可调

喷淋头：Φ100mm 间距40-100mm在线连续可调

样品台：直径100mm

真空腔体：前开门式，φ245mm X 300mm 不锈钢材质

观察窗：φ100mm 带挡板

供气系统

测量范围   

A通道: 0～200SCCM，气体为 Ar

B通道: 0～200SCCM，气体为O2

C通道: 0～200SCCM，气体为N2

液体源：氩气或者氮气

接头规格:6.35mm卡套接头

真空系统

接口类型    吸气口：KF40 

排气口：G1”

排气速度

氮气：60L/S

带保护网时氮气：55L/S

轴承类型：陶瓷轴承，脂润滑

冷却方式：强制空冷

速度：69000rpm

启动时间：1.5〜2min

停止时间：15〜25min

压缩比N2：2x 107

压缩比H2：3x 103

*大允许背压：800Pa

轴承寿命为：20000小时

分子泵控制器：TC75

辅助泵类型：双级旋片真空泵

排气速度：160L/min

沉积工作室

0.133-40Pa（可根据工艺调整）

真空计

复合真空计

水冷机

水流速：10L/min

功率：0.1Kw

冷却水温度：<37℃

质保期

标准保修期1年