产品详情
  • 产品名称:桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪

  • 产品型号:CY-MSZ254-I-DC-SS
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积
详情介绍:
磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。

磁控溅射镀膜仪产品特点:

 高效镀膜:采用磁控溅射技术,沉积速率高,薄膜均匀性好。
 多功能应用:支持多种靶材和基材,适用于不同材料的薄膜沉积。
智能控制:配备先进的控制系统,实现精准的工艺参数控制。
模块化设计:方便维护和升级,可根据需求定制各种功能模块。

环境友好:低能耗设计,减少对环境的影响。

磁控溅射镀膜仪技术参数:

参数名称

参数说明

产品名称

桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶

产品型号

CY-MSZ254-I-DC-SS

真空腔

腔体材质

304不锈钢焊接而成,表面做抛光处理

取放模式

前开门方式取放样品和靶材

观察窗

直径100mm真空窗口,配有磁力挡板,防止污染

样品台

样品尺寸

直径≦100mm的平面样品均可

旋转速度

不旋转和旋转型(0-30RPM)可选

加热温度

RT-500;RT-800;RT-1000℃可选

磁控靶

靶枪类型

普通永磁靶,可调角度

靶材尺寸

直径2英寸,厚度≦3mm,

溅射功率

300W

溅射方式

直流溅射

工作真空

0.3-3Pa

电源

直流电源 300W *2

溅射气体

高纯氩气,纯度99.99%

真空测量

复合真空计,电阻规+电离规,测量范围:105-10-5Pa

真空获取

前级泵

抽速 1.1L/S

分子泵

抽速  600L/S

膜厚测量

通常配CYKY膜厚测量仪

也可选配进口品牌,价格额外计算

外形尺寸

550mm*350mm*450mm

包装尺寸

770×720*730mm

包装重量

110 KG

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