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磁控溅射镀膜仪产品特点:
高效镀膜:采用磁控溅射技术,沉积速率高,薄膜均匀性好。多功能应用:支持多种靶材和基材,适用于不同材料的薄膜沉积。
智能控制:配备先进的控制系统,实现精准的工艺参数控制。
模块化设计:方便维护和升级,可根据需求定制各种功能模块。
环境友好:低能耗设计,减少对环境的影响。
磁控溅射镀膜仪技术参数:
参数名称 |
参数说明 |
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产品名称 |
桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶 |
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产品型号 |
CY-MSZ254-I-DC-SS |
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真空腔 |
腔体材质 |
304不锈钢焊接而成,表面做抛光处理 |
取放模式 |
前开门方式取放样品和靶材 |
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观察窗 |
直径100mm真空窗口,配有磁力挡板,防止污染 |
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样品台 |
样品尺寸 |
直径≦100mm的平面样品均可 |
旋转速度 |
不旋转和旋转型(0-30RPM)可选 |
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加热温度 |
RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可选 |
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磁控靶 |
靶枪类型 |
普通永磁靶,可调角度 |
靶材尺寸 |
直径2英寸,厚度≦3mm, |
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溅射功率 |
300W |
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溅射方式 |
直流溅射 |
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工作真空 |
0.3-3Pa |
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电源 |
直流电源 300W *2 |
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溅射气体 |
高纯氩气,纯度99.99% |
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真空测量 |
复合真空计,电阻规+电离规,测量范围:105-10-5Pa |
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真空获取 |
前级泵 |
抽速 1.1L/S |
分子泵 |
抽速 600L/S |
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膜厚测量 |
通常配CYKY膜厚测量仪 |
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也可选配进口品牌,价格额外计算 |
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外形尺寸 |
550mm*350mm*450mm |
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包装尺寸 |
770×720*730mm |
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包装重量 |
110 KG |