产品名称：单靶磁控溅射镀膜仪

本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源）。镀膜时，可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。还可根据客户需要配置可旋转样品台、加热型样品台、多功能样品台，整机性价比高，是制作各种金属（或非金属）薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空系统。
技术参数

项目	明细
产品型号	CY-MSH270-I-RF-Q
供电电压	AC220V，50Hz
整机功率	3KW
系统真空	≦5×10-4Pa
样品台	尺寸	150mm
	加热温度	≤500℃
	旋转速度	1-20r/min
	控温精度	±1℃
磁控溅射头	数量	2英寸 x1
	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	φ270mm X 200mm
	观察窗口	全向可视
	开启方式	顶盖拆卸式
	腔体材料	高纯石英
真空系统	机械泵	CY240
	抽气接口	KF16
	抽气速率	1.1L/s
	分子泵	CY600
	抽气接口	KF40
	抽气速率	600L/s
	排气接口	KF40
	真空测量	电阻规+电离规
	供电电源	AC;220V 50/60Hz
气体控制	1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
膜厚测量	可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
控制系统	CYKY自研专业级控制系统
电源配置	直流电源数量	1台
	输出功率	≤500W
	输出电压	≤600V
	响应时间	＜5ms
	射频电源数量	1台
	输出功率	≤1000W
	功率稳定度	≤5W
	测量精度	±0.5%
	测量速度	100~1000ms
	测量上限	50000

1、有时为了达到理想的薄膜厚度，需要多次溅射镀膜。在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前用超声波清洗基材表面。

2、基材清洗方式

（1）丙酮超声清洗→异丙醇超声清洗去除油脂→吹氮气干燥→真空烘箱除去水分

（2）等离子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力此溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射。