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本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能*大限度的保护样品。
桌面型靶下置型磁控镀膜技术参数：
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产品名称 |
桌面型靶下置型磁控镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-MSZ180X-I-DC-SS |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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加热温度 |
≦500℃ |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ180mm X215mm |
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观察窗口 |
全向透明 |
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腔体材料 |
304不锈钢 |
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开启方式 |
上盖拆卸式 |
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真空系统 |
前级泵 |
低噪音双极旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速涡轮分子泵 |
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真空测量 |
复合真空计，量程:10-5~105Pa |
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抽气接口 |
KF16 |
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抽气接口 |
KF40 |
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排气接口 |
KF16 |
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系统真空 |
1.0×10-4Pa |
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供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s |
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电源配置 |
电源数量 |
直流电源一套 |
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输出功率 |
500W |
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其他参数 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
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整机功率 |
2kW |
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整机尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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