应用
半导体的目标应用
包括：PECVD高 K低 KSACVDLPCVDALDEPI
FPD 的目标应用包括：PECVDTCO刻蚀传输腔
主要特性和优势 针对先进的 EPI 和太阳能制程大幅提高了氢气抽取速度。大容量干泵和 增压泵提供扩展的制程窗口以提高产量。占地面积更小，高度更低，便于在任何工厂中安装。符合主要的国际标准，包括 UL、CE 和 S2。可以始终如一地使用或省略不用。