STP-iX455 涡轮分子泵具有**性磁力轴承和电机驱动系统，与上一代涡轮泵相比将振动降低了 50%。采用集成的控制器，不需要使用传统的安装于机架上的控制器及互连电缆，不需要水冷却。
此泵的氮气抽速为 450 ls-1。STP-iX455 极为适合电子显微镜、度量学、光刻和其他对振动敏感的应用。

Edwards 是清洁干燥真空技术的***。首批 STP 泵是在 1983 年销售的，目前，这种泵在全球范围内的安装数量已超过 70000 套。其中 85% 在半导体制程机台上运行，表现出**的可靠性。对于需要长时间正常运行、无碳氢化合物泵送、维护量少和低振动的应用，STP 泵是优选泵。
  

• 经过验证的可靠性。
• 清洁、无油的高真空。
• 覆盖 300 - 4500 l s-1 的整个范围。
• 特定于应用的型号。
• 极低的噪音和振动。
• 低拥有成本。
• 几乎免维护。
• 可在任意方向上安装。
• **远程控制接口。
• Edwards 在全球范围提供支持。

经过验证的磁力轴承技术
  
转子通过磁力轴承实现完全悬浮，因此，消除了转子与泵其余部分之间的所有接触。除振动极低之外，消除接触还意味着轴承不会发生磨损，也就无需对泵进行后续维护。
  
UHV 系列
  
超高真空系列磁悬浮涡轮分子泵是供半导体、表面科学或高能物理领域使用的优选泵。这种泵具有****的可靠性、性能、清洁程度以及**的低振动级别。这些泵全部是直流供电，无需使用电池，采用一个具有自动调节和先进诊断功能的半机架控制器。该系列中泵的速度范围为 300 l s-1 至 1300 l s-1，全部速度均可在 ISO 或 CF 法兰选配型中提供。 
  
无油
  
所有 STP 涡轮分子泵都是无油的。通过采用磁力轴承，无需使用任何碳氢化合物润滑剂，从而确保不会对涡轮分子泵的真空制程造成污染。在半导体工业（元件密度不断增加）和表面科学或高能物理应用（即使轻微污染也会干扰测量）中，这一特性至关重要。
  
免维护
  
与常规机械轴承不同，磁悬浮轴承没有摩擦接触，从而消除了磨损和振动来源。由于这一特性，STP 涡轮分子泵运行多年都几乎无需维护，可将年运行成本降到*低，确保达到*长正常运行时间。对于会产生化学污染或放射性污染的制程来说，这种免维护特性尤其有益。
  
无振动
  
磁悬浮转子产生的噪音和振动非常低。振动峰-峰值小于 0.02 µm。这一幅度在泵的整个生命期内保持恒定，不会产生棘手的次谐波。
  
自动平衡系统 (ABS)
ABS 是一种独特的**型 5 轴开发技术。如果存在任何转子不平衡（例如，因制程副产物的沉积造成），则泵中的传感器会检��到转子运动的变化，从而对磁力轴承的磁场进行补偿，使转子绕其固有惯性轴旋转。这样会*大程度地降低传输到进气口法兰的振动。ABS 适用于所有泵转速。
  
**后备轴承
  
STP 泵采用干式润滑轴向和径向机械轴承作为**后备轴承。它们支撑转子，在磁悬浮完全中断或巨大的空气冲击克服了磁力轴承刚性时，为泵提供保护。这些高精密滚珠轴承采用干式润滑，在正常运行期间不与转子接触。
  
优化的转子
  
UHV 泵中的多级叶片式转子可提供 CD SEM 机器、质谱仪和离子注入机上的清洁射束线所需的高真空。它们通过出色的轻气体压缩比实现*佳泵送性能。 
 
TMS 系统
  
很多涡轮泵上都提供了 Edwards 温度管理系统。该系统可优化泵内的温度，显著减少其中的颗粒冷凝物。这不仅会大大提高泵在严苛制程条件下的性能，还会延长泵的使用寿命。

• 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
• 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
• 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
• 溅射
• 离子注入源，射束线泵送端点站
• MBE
• 扩散
• 光致抗蚀剂脱模
• 晶体/晶膜生长
• 晶片检查
• 负载锁真空腔
• 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
• 高能物理：射束线、加速器
• 放射线应用：融合系统、回旋加速器

紧凑型设计，包括完全集成的控制器

**性自传感轴承系统

数字化 5 轴控制

与现有涡轮泵相比振动级别降低了 50%

可以配置为运行腐蚀性制程

自动平衡系统 (ABS) 标准

自动减振 (AVR) 标准

列于 UL 中，具有 CE 标记，符合 SEMI® S2