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JPDC-1010低温恒温槽的主要应用范围
日期：2024-11-24 04:17
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摘要：
JPDC-1010低温恒温槽的主要应用范围：对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。其他产业用机器发热部分的冷却：等离子熔接、自动包装机、模具冷却、洗净机械、镀金槽、精密研磨机、射出成型机、树脂成型机的成型部分等。分析检测机器的发热部分的冷却： 电子显微镜的光源、...
JPDC-1010低温恒温槽的主要应用范围：
对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。
其他产业用机器发热部分的冷却：等离子熔接、自动包装机、模具冷却、洗净机械、镀金槽、精密研磨机、射出成型机、树脂成型机的成型部分等。
分析检测机器的发热部分的冷却： 电子显微镜的光源、ICP发光分光分析装置的光源部分、分光光度计的发热部分、X线解析装置的热源、自动脉冲调幅器的发热部分原子吸光光度计的光源等。水箱可用上等的纯净水在机内外循环冷却，可保证对水质要求较高的精密仪器的正常运行，延长精密仪器的使用寿命。
