产品详情
简单介绍:
真空井式高温炉额定温度分别为1100°C,1300°C,1600°C,1700°C,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,**可靠,同时也可以满足于不同的工艺实验而特殊制造,采用51段程序控温系统,移相触发,可控硅控制,炉膛采用1800型氧铝多晶体纤维材料,具有温场均衡,表面温度低,升温速率快,节能等优点。
用途:真空井式高温炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结,玻璃的精密退火与微晶化,晶体的精密退火,陶瓷釉料制备,粉末冶金,纳米材料的烧结,金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位,高等院校工矿企业理想的实验和生产设备。
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