开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV OTF-1200X-F3LV

开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

1、双层壳体，配有循环风冷系统，壳体温度<60℃。

2、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高加热效率，同时延长使用寿命。

3、采用PID控制器 ，可以设置30段升降温程序。

4、设有超温及断偶报警功能。

5、已通过CE认证。

1、电源：AC 220V   50/60Hz  2.5KW

2、石英管：外径Φ80mm，内径Φ75mm，长1000mm

3、加热元件：掺钼铁铬铝合金电阻丝

4、加热区域：440mm

5、恒温区域：150mm

6、工作温度：*高1200℃，连续工作1100℃

7、*大升降温速率：20℃/min

8、控温精度：±1℃

9、真空度：5.5×10^-3torr（机械泵），10^-4torr（分子泵）

10、泄漏率：<5mtorr/min

11、浮子流量计：3个；10-100ml/min，16-160ml/min，25-250ml/min

12、压力表：4个

尺寸：管式炉550mm×380mm×520mm，混气系统600mm×600mm×597mm；重量：60kg