真空箱式炉 ZMF-1200C-M ZMF-1200C-M

产品简介

 



 

        本公司研发生产的ZMF-1200C真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的碳化实验。该炉采用电阻丝加热，PID程序温控仪控制。温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定，并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热熔小，温度升降控制灵活、节能等特点。设备可根据真空度的需要，分别选用机械泵和真空机组，非常适用于试验和小批量生产使用。

 



 


设备型号 ZMF-1200C 
*高温度 1200℃ 
使用温度 ≤1100℃ 
炉膛有效尺寸 250*300*250mm 
炉膛材料 氧化铝、高铝纤维制品 
热电偶类型 K型热电偶 
控温精度 ±1℃，30段可编程控温，PID参数自整定触摸屏控制 
加热元件 电阻丝 
冷态极限真空 

产品详细信息