5英寸近距离蒸发镀膜炉 OTF-1200X-RTP-II-5

电压

• 输入：208 - 240VAC, 20 A, 50/60 Hz, 单相  ( < 3200W )
• 输出： 0 - 8VAC （可调）*大电流： 400A 
• *大功率：4000W（包括真空泵）

真空腔体

• 不锈钢腔体：280mm ID. x 375 mm H，腔体内壁做了电抛光处理
• 有两个40mm的观察窗口（采用无氧铜密封圈密封）
• 一个RF-150法兰，便于放入样品。
• 一个CF150法兰，可与真空泵相连接
• 一个CF-16法兰
• 七个CF-36法兰，便于安装真空计、电极和其他用途备用

真空泵

（点击图片查看详细资料）

• 仪器中包括一台高抽速的涡轮分子泵
• 抽速：600L/S
• 真空度：5.0x10-6 torr（泵开启后40分钟）
• 极限真空度：5.0x10-7  torr（烘烤温度为100-150℃）
• 漏气率：5.0x10-7Pa./S

蒸发加热源 样品台

• 5个水冷电极安装在腔体底部，可支持4个钨加热舟
• 每个钨舟上面安装有可移动的挡板，所以实验时可以实现多源共蒸发，也可实现顺序蒸发
• 样品台安装在真空腔体顶部，直径为260mm
• 蒸发源与样品台的距离为300mm
  
  

测厚仪

• 一个高分辨度的薄膜测厚仪安装在腔体内部
• 测量精度为：1.0Å
  

循环水冷机

• 仪器使用过程中需要通冷却水，为了节约用水，强烈建议使用循环水冷机
• 所需水流量>15L/min

控制单元

真空、厚度和输入电源控制全部集合在一个控制盒内

控制单元和真空腔体独立分开，以便于操作

外形尺寸

L600mm× W860mm× H1500mm

净重

600kg

质保

一年质保期，终生维护

质量认证

CE认证