TEM用纯Si薄膜窗口 S

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产品价格： < 面议

产品型号：S

品牌：其它品牌

公司名称：上海昭沅仪器设备有限公司

所在地：上海杨浦

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产品简介

TEM用纯Si薄膜窗口特点
 
纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰；
清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；
均匀性：减少了不同区域的不均匀性；
稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous)；
减少污染：彩色污染仅为C膜的一半；

产品详细信息

TEM用纯Si薄膜窗口

纯硅薄膜窗特点

纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰；

清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；

均匀性：减少了不同区域的不均匀性；

稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous)；

减少污染：彩色污染仅为C膜的一半；

纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰；

Si成分：溅镀沉积、纯的Si；

*小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析；

纯硅薄膜窗规格

单窗口系列

窗口类型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	5nm	25x25µm	Φ3mm	100µm
	30nm	500x500µm 纳米孔10-60nm	Φ3mm	100µm

多窗口系列

窗口类型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	5nm	2x1阵列，50X1500µm	Φ3mm	100µm
	9nm /15nm	2x1阵列，100X1500µm	Φ3mm	100µm
	5nm	2x1阵列，100X100µm	Φ3mm	200µm
	9nm /15nm	2x1阵列，100X1500µm	Φ3mm	200µm
	5nm	3x3阵列，8个窗口50X50µm，1个窗口50X100µm	Φ3mm	100µm
	5nm /9nm	3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm	Φ3mm	100µm
	9nm	3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm	Φ3mm	200µm
	15nm	3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm	Φ3mm	100µm
	30nm	3x3阵列，8个窗口100X100µm，1个窗口100X350µm；纳米孔10-60nm	Φ3mm	100µm
	15nm	3x3阵列，窗口100X100µm	Φ3mm	200µm