光学设计中Zemax的应用

　　Zemax由美国华盛顿州贝尔维尤市的Zemax软件开发公司研制发售，它将光学系统的设计概念、优化、分析、公差以及报表集成在一起，形成一套综合性的光学设计仿真软件。到目前为止，Zemax已经成为当今使用*广泛的光学设计软件之一，市场占有率达到85%。目前Zemax使用群集中在光学公司，光电研究所，投影仪，望远镜，扫描仪等光学设计公司。

　　Zemax常常被应用于各种相机镜头，显微镜，望远镜，目镜等光学镜头的设计;各种变焦镜头，手机摄像头的设计;LCD 背光板和LED建模;DVD、VCD 激光读写头;干涉仪、全息光学;各种激光器谐振腔的设计等等。

　　Zemax有两个等级的版本，包括Zemax-SE(标准版)， Zemax-EE(专业版)。使用序列性与非序列性的方法来模拟成像系统和非成像系统的反射，折射和散射光线追迹。序列性光线追迹的光线追迹速度快、适合多数面的形状和性质，可以直接优化和进行公差预算，主要针对相机镜头、望远镜镜头、显微镜头等光学系统。而非序列主要针对非成像系统或者是复杂的形状对象，可以对光线传播进行更细节的分析，包括散射光或部分反射光。

　　Zemax光学设计软件支持不同类型的光源，包括自定义的光源，同时提供近60种光学曲面面形，以及自定义的面形，包含很多玻璃库，材料库，样板库等。同时可以进行镀膜分析，热分析，偏振光分析，物理光学分析等。当设计好一个光学系统之后，可以运用二维或者是三维图来观察系统结构。Zemax还提供了各类像质评价指标。例如点列图，弥散斑，调制传递函数，点扩散函数，几何像差图等。*重要的是，Zemax的优化功能，可以通过改变光学系统的结构参数来提高系统的成像质量。