高纯水的参数及应用范围:高纯水(High purity water)是指25℃时电导率小于0.1 μs/cm和残余含盐量小于0.3 mg/L,并去除了非电介质的微量**、微生物、微粒等杂质的水。制取方法有蒸馏、RO膜分离、离子交换等。主要用于电子和微电子工业,也用于食品、造纸、医药、电子、核工业等行业。
水的纯度通常是以水中所含杂质的相对含量来表示的。但当水的纯度达一定水平后,水中的杂质总量已很少了,个别杂质的浓度更低,有些已不易检出。在这种情况下,常用水的电导率(或电阻率)来表示水的纯度。因为纯水中H+和OH-离子的浓度都是10-7 mol/L,其电导率很低,几乎不导电。而当水中含有某些杂质(如可溶性盐)时,由于杂质离子能导电,使其电导率迅速上升。因此水的电导率是与其纯度密切相关的。
泉特QTCJ高纯水制取工艺:源水→机械过滤→活性炭过滤器→软水器→二级反渗透器→纯水箱→EDI精除盐→离子交换柱→高纯水箱→供水泵→紫外灯**器→精密过滤器→用水点
高纯水的制备流程由预处理、脱盐和后处理三部分组成,根据用水的要求,选择合适的工艺组合。
(1)预处理。主要是除去悬浮物、有机物,常用的方法有砂滤、膜过滤、活性炭吸附等。
(2)脱盐。主要是除去各种盐类,常用的方法有电渗析、反渗透、离子交换等。
(3)后处理。主要是除去**、微颗粒,常用的方法有紫外**、臭氧**、超过滤、微孔过滤等。
我国高纯水的国家标准将电子级水分为五个级别,相应标准为EW-I、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-IV、EW-V,其中EW-I为***,它所要求的杂质控制指标如下:电阻率在90%时间内达到18 MQ·cm(25℃),其余时间*小值为17 MQ·cm(25℃),大于0.5 μm的微粒数少于100个/mL,**个数*大值1个/mL,总有机碳含量不大于50 μg/L,二氧化硅总含量不大于2 μg/L,氯、钾、铝、铁、钙的含量均不大于0.5 μg/L,而铜、锌含量不大于0.2 μg/L。
泉特高纯水主要应用在电子和微电子工业上,也用于食品、造纸、医药等行业。随着半导体器件由过去的单电路发展到集成电路,对水质的要求就越来越高。在半导体切片和研磨过程中,须用高纯水进行清洗,即使只有微粒尘埃杂质,也会影响产品质量。
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