该实验装置能在较低的背景真空度下实现金属薄膜的制备，同时利用低电阻测量四接头电极电流电压变化，通过数字万用表在镀膜过程中，瞬态、原位测量薄膜的导通电压、电阻阻值随沉积时间的变化规律，通过宏观物理量的变化关系反应出微观薄膜物理性能与薄膜生长过程的对应关系。

Fluke 787 过程万用表

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