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金相磨抛机-电解抛光的优点
金相磨抛机-电解抛光的优点
     
      1.由于电解抛光具有电化学整平及光亮作用，表面粗糙度值可达Ra0.05（▽12），反射率可达90%以上。因此，可以 防止设备表面挂料、粘壁等现象。

       2.电解抛光为阳极非均匀溶解过程，且在钝化区进行，因此金属表面可达到良好的钝化效果，且在表面形成均匀致密的铬盐膜，大大提高了抗环境腐蚀性能。

       3.电解抛光消除了表面应力集中现象，同时消除了金属表面因研磨而行成的拜尔培层，提高了设备及工件表面的物化性能。

 

电解抛光适用范围

     由于电解抛光成本高，技术含量高，操作难度大且不易形成自动化，故只用于一些对表面性能要求高的设备及工件（如：生化制药设备、化工聚合反应釜、航空配件、食品、化妆品设备等）。

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