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等离子清洗机
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等离子清洗机
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产品名称/型号
产品简单介绍
等离子清洗机 等离子刻蚀机 等离子表面活化
GDR-100PR
等离子清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。等离子清洗机/等离子处理机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。通过其等离子表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
大型RF真空等离子清洗机 plasma等离子表面处理设备,可定制
GDR-200PR
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EPDM密封条等离子打磨 表面处理系统 等离子表面处理设备
JYS-C
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台式中频等离子清洗机,等离子刻蚀机,等离子表面处理机
GDR-10PM
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选择性等离子自动处理系统,等离子清洗机,等离子表面处理设备
SK5510
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台式等离子清洗机 小型等离子清洗机 实验室台式表面处理设备
GDR-10PR
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三维机器人等离子处理系统 等离子清洗机 等离子刻蚀机
JYM-B4
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培养皿、酶标板表面处理机,等离子清洗机,欢迎实地考察
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等离子清洗机 、刻蚀机 、干法处理机、 无水处理机,可非标定制
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等离子清洗器
GDR-10PM
等离子清洗器有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗器,等离子清洗机,等离子清洗仪,等离子刻蚀器,等离子表面处理器,电浆清洗器,plasma清洗器,等离子去胶器,等离子清洗设备。 GDR-10PR台式等离子清洗器是我公司针对实验室需要开发的一款小型台式等离子清洗器。特别适合各种基片、粉体或颗粒状材料的等离子表面改性处理,包括:等离子清洗、活化、刻蚀、沉积、接枝与聚合等。
等离子体清洗机
GDR-30PR
等离子体清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。 GDR-10PR台式等离子体清洗机是针对实验室需要开发的一款小型台式等离子体清洗机。适合各种基片、粉体或颗粒状材料的等离子表面改性处理。 等离子清洗机原理、等离子清洗机技术、等离子清洗机厂家。
等离子清洗机
GDR-60PR
等离子清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。 GDR-60PR真空等离子清洗机是我公司针对工业生产开发的一款中型立式等离子清洗机。适合各种基片、粉体或颗粒状材料的等离子表面改性处理,包括:等离子清洗、活化、刻蚀、沉积、接枝与聚合等。
等离子清洗机
GDR-100PR
等离子清洗机又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。 GDR-100PR真空等离子清洗机是我公司针对连续工业生产开发的一款中型立式等离子清洗机。适合各种基片、三维物体或颗粒状材料的等离子清洗、活化、刻蚀、沉积、接枝与聚合等表面改性处理。
等离子处理机
GDR-150T
等离子处理机又称等离子体处理机,等离子表面处理机,等离子处理器,等离子处理仪,等离子活化机,电浆处理机,plasma处理机,等离子表面处理器,等离子处理,等离子等离子表面处理,等离子处理设备,等离子表面处理设备,等离子体表面处理设备。 GDR-150T滚筒式等离子处理机,由触摸电脑+PLC多步流程全自动控制,全电路检测,用于颗粒状材料清洗、刻蚀、活化、接枝处理,动态旋转,处理均匀,无死角。
微波等离子清洗机
WB300
等离子体清洗技术包含等离子清洗机原理,等离子清洗机技术,等离子清洗机厂家,等离子清洗机价格,等离子清洗机应用。 等离子清洗机包含小型等离子清洗机,大型等离子清洗机,射频等离子清洗机,微波等离子清洗机,真空等离子清洗机,常压等离子清洗机等。 微波等离子清洗机采用**高密度微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洁和等离子体预处理,微波等离子高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。
微波等离子去胶机
WB600
等离子去胶机有几种称谓,又称等离子体去胶机,等离子表面去胶机,等离子去胶仪,电浆去胶机,plasma去胶机,等离子去胶设备,等离子表面去胶设备,等离子体去胶机,等离子体去胶器,等离子体去胶仪,等离子去胶,等离子体去胶,等离子体去胶设备 WB600微波等离子去胶机采用**高密度微波等离子技术,用于半导体生产中晶圆的清洗、去胶和等离子体预处理,微波等离子高度活性、高效,且不会对电子装置产生离子损害。
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