全谱直读光谱分析仪
全谱直读光谱分析仪是我公司引进欧洲技术生产,是目前*先进的国际公认的**代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。 全谱光谱制造技术(数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)能够*大地提高测量精度及范围,在市场上同类固定式光谱仪中表现**灵活性,其性能价格比,还有易于操作、坚固结构、可靠耐用及占地空间少等… … 种种原因,吸引了世界上的大型企业及各种金属制品的生产使用全谱直读光谱分析仪。
Ø 产品优势
1、世界先进的**代CCD全谱光谱制造技术(数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道不受限制 ;
2、全谱直读光谱分析仪引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步,国内**能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商;
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、升级多基体方便,无须变动增加硬件 ;
5、优良的数据稳定性,同一样品不同的时间段分析,可获得良好的数据一致性 ;
6、体积小、重量轻, 移动安装方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ;
8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。
Ø 主要特点:
1、全谱直读光谱分析仪可测定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;
2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用*短的时间达到*优的分析效果;
3、光学系统采用非真空恒温光室,激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空���室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性**;
4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空速度不到普通光谱仪的一半;
5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
6、开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
7、工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;
8、HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;
9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气,氩气消耗不到普通光谱仪的一半;
12、采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,清洁电极更加容易;
13、高性能DSP及ARM处理器,具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况;
14、全谱直读光谱分析仪与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有更好的适用性;
15、核心器件全部原装进口,保证了仪器优良**的品质。
Ø 产品参数:
光学系统
光学结构
帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统
光室温度
自动控制恒温:35℃±0.5℃
波长范围
160-800nm
光栅焦距
350 mm
光栅刻线
3600 l/mm
**光谱线色散率
1.2 nm/mm
探测器
多块高性能线阵CCD
平均分辨率
10pm/pixel
激发台
气体
冲氩式
氩气流量
激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量
电极
钨材喷射电极技术
吹扫
点击自吹扫功能
补偿
热变形自补偿设计
分析间隙
样品台分析间隙:4mm
激发光源
类型
HEPS数字化固态光源
频率
100-1000Hz
放电电流
1-80A
特殊技术
放电参数优化设计
预燃
高能预燃技术
数据采集系统
处理器
**ARM处理器,高速数据同步采集处理
接口
基于DM9000A的以太数据传输
电源与环境要求
输入
220VAC 50Hz
功率
分析时*大700W,待机状态40W
工作温度
10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h)
工作湿度
20-80%
尺寸与重量
尺寸
800*450*500 mm
重量
85Kg