法国lamplan抛光耗材钻石研磨液

lamplan抛光耗材

Liquide Final

非凝聚纳米二氧化硅的水悬浮液中，在碱性介质中稳定。用于超精抛光，实现了超低的粗糙度。非常简单，适用于任何类型的材料的抛光。
推荐使用：10％至20％的水稀释。

Liquide Final L1

专门制定*终化学机械抛光液。在使用过程中，该溶液中的有效成分能削弱的工件的表面，从而产生*佳效果的磨粒进行研磨。能兼顾及切除的材料的效率和抛光质量。推荐用于钛及其合金。

Liquide Final L2

综合的瓷氧化物和二氧化硅解决方案陶。用于超精表面抛光。推荐的用于抛光铝及其合金。

Liquides ALPLAN

组成成份：新的非常高纯度的三氧化二铝的*终抛光。其氧化铝解体可获得高质量的抛光。ALPLAN的解决方案可用于所有类型的材料。

推荐使用范围：可用于纯或稀释至50％的水。

多年来，R＆D部门，LAM PLAN是致力于开发更健康和保护环境的**产品，且不损害效率。其**供应和全程追溯。符合欧盟REACH法规。

LAM PLAN已实施的应用程序，以确保其产品的质量和可用性的长期所有必要的规定。我们的筹备工作中的所有物质符合REACH法规的要求。为了方便您的文书工作，所有数据表（MSDS），并可以直接从网上下载www.lamplan.fr /fds

Liquides Bio DIAMANT®  Neodia®  M 和 P 

法国有名生物DIAMANT®新的金刚石磨料液体Neodia直接®在性能，效率和易用性方面走得更远。液体金刚石Neodia®是拥有上等的产品与**的性能。

改进的粗糙度
使用紧标准校准和浓度的磨料，以及使用新一代的的水基粘合剂，可以得到更好的粗糙度，同时能保持高的材料去除率。粘合剂的可以使从**秒开始提供一致性的切割效果。

可降解的的化合物
新的钻石的液体Neodia®制成的特异性结合的新一代，液体的VOC（挥发性有机化合物）。液体钻石Neodia®自然生物降解70％以上，根据我们的的DIAMANT生物®标签的标准。无毒无害，它们是中性的，得到用户很好评。

金刚石悬浮液/单晶硅产品/不需要搅拌

钻石悬架/多晶产品/高性能/不需要搅拌

Liquide Bio DIAMANT® PRIMEO
 单晶金刚石悬浮液，集成冷却润滑剂。液体PRIMEO是一个简单的产品，为您的日常工作和重复金相使用。提供经济且适合手动或自动加料，晶粒大小从1到14微米。

悬浮预测量

Liquide Bio DIAMANT® M.M.140
 高性能超精加工的所有材料的乳液。
 浓度。
 溶剂清洗或洗衣742。

Liquide Bio DIAMANT® Pulmatic310和320P
 用于抛光。
 的Pulmatic是一个很好的工作表面上分布的产品，包装上使用方便。采用压缩剂气体（空气泵浦压缩）。
 的Pulmatic310单晶金刚石磨料，以酒精为基础的中等浓度。
 的Pulmatic320P是一种聚晶（多晶）金刚石磨料，以酒精为基础的介质浓度。

 抛光盘2FC1（取代416）
非织造纤维浸渍。
剪切，完成额外的硬质材料。
用于磨料金刚石3至9微米。
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抛光盘2TT1（取代415和新林®黄）

合成纤维梭织塔夫绸。
材料去除和难加工材料的平整度。
用于磨料金刚石6-15微米。
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抛光盘2TS4（替换MM414新林®和Orange）

天然纤维编织缎。
优良的光洁度，平整度，保护边缘。
特别是在样品的不同的硬度的材料或涂层。长寿。
使用磨料金刚石从1到6微米..
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抛光盘3SE1（取代奶白）
丝绸织合成纤维。
完成度和平整度的软质材料。
使用磨料金刚石1到3微米。
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抛光盘3TL1（替换4X3）
羊毛纤维编织。
适用于无涂层的样品完成。
长寿。
用于磨料金刚石从3到6微米。

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抛光盘4MP1（取代Aquablack）
聚氨酯微孔泡沫塑料。
适用于敏感的样品，要求超极端的化学整理磨料。
可以使用的氧化物或胶体二氧化硅。

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1.（白金系列）金刚石研磨盘的说明

     该金刚石研磨盘是一个具有非常高的材料去除率允许所有预抛光的步骤，通常是有效替砂纸。进行研磨磁盘。

金刚石研磨盘的蜂窝结构体可优化的磨料使用金刚石，它可改善润滑并保留样品获得*佳的平整度。
推荐金刚石研磨盘的研磨材料的硬度>120HV。

4个型号可供选择：

     PLATINIUM0 - 黑色用来代替砂纸＃80~＃100；  

     PLATINIUM1 - 蓝色用来代替砂纸＃120~＃180；  

     PLATINIUM2 - 绿色用来代替砂纸＃220~＃320；

     PLATINIUM3 - 黄色用来代替砂纸＃600；

     PLATINIUM4 - 红色用来代替砂纸＃1200；

润滑液

     水是主要的此预研磨工序中使用的润滑剂，但它可以替换的流体被敏感的材料时，将不会产生腐蚀。

压力

     申请以抽样的平均压力P=250gr/cm2中的材料的硬度> 200 HV。这种压力体现在适用于样品的质量（M）。

     这种压力必须被降低，<150gr/cm2，较软的材料（<120HV）或脆性，增加，<350gr/cm2非常硬的材料（>500HV）。增加的压力提高输出的的CAMECyDisk PLATINIUM，但需要更频繁的面向。

     速度为CAMECyDisk推荐转速是150转。速度的增加提高了输出的CAMECyDisk PLATINIUM，但还需要更频繁的面向。

4。CAMECPDisk PLATINIUM的保养。

     表面

     被提供有该CAMECyDisk PLATINIUM在其表面上的保护膜。在使用它之前的**次操作一个面临的磁盘提供的磨石。以保持材料去除率中，面对CAMECyDisk PLATINIUM定期。每个面层之间的时间间隔取决于材料，被对待的样本的数量和大小。下表给出了相对的一些指示

     如果硬度的材料或样品的大小更重要的是，每个面层之间的间隔必须减少。与此相反，如果材料的硬度或样本的大小是不太重要的时间间隔将被延长。
 

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