光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。INF-1应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。
详细参数
特性
膜厚测量原理和特性
应用
配置
分析示例
参数
型号
C11011-01
可测膜厚范围（玻璃）
25 μm to 2200 μm*1
可测膜厚范围（硅）
10 μm to 900 μm*2
测量可重复性（硅）
100 nm*3
测量准���度（硅）
< 500 μm: ±0.5 μm； > 500 μm: ±0.1 %*3
光源
红外LED（1300 nm）
光斑尺寸
φ60 μm*4
工作距离
155 mm*4
可测层数
一层（也可多层测量）
分析
峰值探测
测量时间
16.7 ms/点*5
外部控制功能
RS-232C / PIPE
接口
USB2.0
电源
AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗
50W
*1：SiO2薄膜测量特性
*2：Si薄膜测量特性
*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差
*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL
*5：连续数据采集时间不包括分析时间