日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

日期：2025-02-22 12:14

浏览次数：96

摘要：日本HORIBA堀场堀场制作所：日本HORIBA堀场椭圆偏振光谱仪，日本HORIBA堀场椭偏仪，椭圆偏振光谱仪（ellipsometer），简称椭偏仪，是一种利用材料的光学特性进行光学常数、微结构分析和薄膜厚度测量的一种仪器。由于椭偏仪的测量过程不需要与样品直接接触，不会对材料表面造成损坏，也不需要真空环境，因此它成为一种简便、快捷、易于实现的材料测量仪器。椭偏仪的主要分析材料为半导体材料、电介质、聚合物材料等。而且由于椭偏测量技术作为一种无损测试技术，对材料的表面损伤很小，因此也可以被用作生物样品的表面检测。

堀场（中国）贸易有限公司是HORIBA集团在中国的总部。

1996年2月，HORIBA堀场制作所 [3] 在北京来开设了驻华办事处，为进入中国市场做准备。2002年7月，作为堀场(HORIBA)集团在中国的生产销售和售后服务的据点，独资企业“堀场仪器（上海）有限公司 [2] ”正式成立。在此基础上，2004年，为统辖中国区业务，“堀场(中国)贸易有限公司”应运而生。

日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

薄膜表征的有效技术
椭圆偏振光谱是一种表面敏感、非破坏性、非侵入性的光学技术，广泛应用于薄层和表面特征。它基于线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变，通过模型拟合获得厚度以及光学常数等。根据薄膜材料的不同，可测量的厚度从几个Å到几十微米。椭圆偏振光谱是一种很好的多层膜测量技术。

椭圆偏振光谱仪可以表征薄膜的一系列特性，如膜厚、光学特性(n,k)、光学带隙、界面和粗糙度厚度，薄膜组成，膜层均一性，等等。

日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

椭圆偏振光谱适合分析的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物和金属。也可用于研究固-液或液-液界面。
HORIBA椭圆偏振光谱仪采用新型高频偏振调制技术，测试过程中无任何机械旋转。与传统椭偏仪相比，更快的测试速度、更宽的测量范围以及更高的表征精度。

Auto SE - 自动化薄膜测量工具一键式全自动快速HORIBA堀场椭偏仪

日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

Auto SE是一种新型薄膜测量工具。仅需简单的几个按钮，几秒钟内即可自动完成样品测量和分析，并提供完整的薄膜特性分析报告，包括薄膜厚度、光学常数、表面粗糙度和薄膜的不均匀性、反射率或透过率。
Auto SE全自动化设计、一键式操作，功能齐全。配备自动XYZ样品台进行成像分析，自动切换微光斑，多种附件可选，以满足不同的应用需求。
Auto SE借助完整的操作向导，自动检测并诊断问题，对故障进行处理，仪器维护简单
Auto SE是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
光谱范围：440-1000nm
光斑尺寸：7个尺寸微光斑全自动切换500x500 µm; 250x500 µm; 250x250 µm; 70x250 µm; 100x100 µm; 50x60 µm; 25x60 µm
探测系统：CCD，分辨率2nm
样品台：真空吸盘，Z轴行程40mm
光斑可视系统：CCD摄像机-视野1.33x1 mm-分辨率10µm
量角器：固定角70°，也可选择66°或61.5°
多种附件可选
测试时间：<2s，常规为5s
准确性：NIST 100nm d ± 4Å, n(632.8nm) ± 0.002
重复性：NIST 15nm ± 0.2 Å

日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

HORIBA堀场椭圆偏振光谱仪（ellipsometer），简称椭偏仪，是一种利用材料的光学特性进行光学常数、微结构分析和薄膜厚度测量的一种仪器。由于椭偏仪的测量过程不需要与样品直接接触，不会对材料表面造成损坏，也不需要真空环境，因此它成为一种简便、快捷、易于实现的材料测量仪器。

椭偏仪的主要分析材料为半导体材料、电介质、聚合物材料等。而且由于椭偏测量技术作为一种无损测试技术，对材料的表面损伤很小，因此也可以被用作生物样品的表面检测。

UVISEL PLUSHORIBA堀场椭圆偏振光谱仪
研究级经典型椭偏仪
光谱范围从FUV到NIR：190-2100nm
UVISEL Plus椭圆偏振光谱仪为先进薄膜、表面和界面表征提供了模块化和性能的优化组合。
UVISEL Plus作为一款高准确性、高灵敏度、高稳定性的经典椭偏机型，它采用了PEM 相位调制技术，与机械旋转部件技术相比，能提供更好的稳定性和信噪比。光谱范围从190nm到2100nm。
UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技术，可在3分钟以内实现高分辨的样品测试（190-2100 nm），校准仅需几分钟。基于全新的电子设备，数据处理和高速单色仪，FastAcq技术能够为用户提供高分辨及快速的数据采集。FastAcq专门为薄膜表征设计，双调制技术可以确保您获得优异的测试结果。
相位调制技术的独有特点为高频调制 50 kHz，信号采集过程无移动部件：
测试全范围的椭偏角，Ψ (0-90)，Δ (0-360)
从FUV到NIR具有优良的信噪比
数据采集速度快，高达50毫秒/点，是动力学研究和在线测量的理想选择
相比于采用旋转元件调制的传统椭圆偏振光谱仪，UVISEL Plus的相位调制模式在表征薄膜方面具有更高的灵敏度和精度。它不仅可以探测到其他椭偏仪无法观测到的极薄膜或界面，还可以表征50µm的厚膜。
在测试有背反射的透明样品时，测试简单、准确，无需刮花背面。
UVISEL Plus还设计有多种附件及可选功能，便于客户根据应用需求及预算选择合适的配置。比如，微光斑用于图案样品、自动变角器、自动样品台等。
UVISEL Plus采用模块化设计，可灵活扩展。即可用于离线台式测量，也可以耦合于镀膜设备做在线监控。
UVISEL Plus可根据习惯选择操作界面，一个是 DeltaPsi2 具有建模和拟合处理功能；另一个是 Auto-Soft 用户导向的全自动样品测试界面，工作流程直观，易于非专业人士操作。
UVISEL Plus搭载FastAcq技术是材料研究和加工、平板显示、微电子和光伏领域中优选通用光谱型椭偏仪。
UVISEL Plus是材料科学研究的理想工具。

日本HORIBA堀场制作所：椭圆偏振光谱仪

下一篇： UENOSEIKI上野精机株式会社：半导体设备
上一篇： KASHIYAMA 柏山（坚山）真空泵代理技术支持