高真空退火炉

产品介绍

     目前高温退火炉加热大都为管式炉或马弗炉，原理为加热丝或硅碳棒对炉体加热，加热与降温速度慢，效率低下，也无法实现温度的高精度测量，加热区域也存在不均匀的现象，华测仪器通过多年研究开发了一种可实现高精度，高反射率的抛物面与高质量的加热源相配置，在高速加热高速冷却时，具有良好的温度分布。可实现宽域均热区，高速加热、高速冷却，用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空，高出纯度气体中加热。设备可组成均热高速加热炉，温度斜率炉，阶段加热炉。

       它提高了加热试验能力.同电阻炉和其他炉相比，红外线反射退火炉节省了升温时间和保持时间及自然冷却到室温所需时间，再试验中也可改写设定温度值。节省时间并提高实验速度。

      同高频炉相比，不需特殊的安装条件及对加热试样的要求。同电阻炉一样安装简单，有冷却系统an全可靠。以提高试验人员的工作效率，实现温度控制操作！

设备优势

1、   高速加热与冷却方式

高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体冷却装置，可实现快速冷却。

2  、温度高精度控制

过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以控制样品的温度。此外，冷却速度和保持在任何温度下可提供高精度。

  3、 不同环境下的加热与冷却

加热/冷却可用真空、气氛环境、低温（高纯度惰性气体静态或流动），操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传送到加热/冷却室。

反射炉温度控制装置

高速升温时，配套的快速反应的高真空退火炉控制装置，本控制装置采用可编程温度控制器。高性能设计，响应速度快。

可选配

干泵：抽速≥120L/min，极限真空度≤4pa，噪音小于52db；

全量程真空规：刀口法兰接口，真空测量范围5X10-7Pa到1atm

为了高速加热、设备采用PID温度控制，同时采用移相触发技术保证试验温度。

    根据设备上的温度控制器输入参数，您也可以简单输入温度程序设定和外部信号。另外还可以在电脑上显示热中的温度数据。

    自适应热电偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型

    可设定32个程序、256个步骤的程序。

    30A、60A、120A内置了SCR电路，所以范围很广。

设备配置

更多应用

1.电子材料

半导体用硅化合化的PRA（加热后急速冷却）

热源薄膜形成·激活离子注入后硅化物的形成

2.陶瓷与无机材料

陶瓷基板退火炉

玻璃基板退火炉。

陶瓷张力、挠曲试验退火炉。

3.钢铁和金属材料

薄钢板加热过程的数值模拟。

炉焊接模拟

高真空热处理（1000℃以下）

大气气体熔化过程

压力下耐火钢和合金的热循环试验炉

4.复合材料

耐热性评价炉

无机复合材料热循环试验炉

5.其它

高温拉伸压缩试验炉。

分段分区控制炉

温度梯度炉

炉气分析

超导陶瓷退火炉